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溅射靶材
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溅射靶材主要用于真空镀膜设备中,通过物理气相沉积(PVD)在基片上涂覆薄膜层,以增加新的功效或创立微小的连接,如薄膜晶体管(TFT)。

用于制备溅射靶材的质料种类繁多,主要取决于最终的用途,因此既可以由纯金属制成,也可以由很是庞大的合金质料制成。

AG8大厅登录薄膜质料为各行业客户提供差别质料所制成的平面靶材和旋转靶材,我们的制备技术先进,包管产品抵达最佳的使用性能。

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